反滲透是一種借助于選擇透過（半透過）性膜的工力能以壓力為推動力的膜分離技術，當系統中所加的壓力大于進水溶液滲透壓時，水分子不斷地透過膜，經過產水流道流入中心管，然后在一端流出水中的雜質，如離子、有機物、細菌、病毒等，被截留在膜的進水側，然后在濃水出水端流出，從而達到分離凈化目的。

反滲透純水設備主要工藝流程說明

　　1．原水罐

　　儲存原水，用于沉淀水中的大泥沙顆粒及其它可沉淀物質。同時緩沖原水管中水壓不穩定對水處理系統造成的沖擊。（如水壓過低或過高引起的壓力傳感的反應）。

　　2．原水泵

　　恒定系統供水壓力，穩定供水量。

　　3．多介質過濾器

　　采用多次過濾層的過濾器，主要目的是去除原水中含有的泥沙、鐵銹、膠體物質、懸浮物等顆粒在20um以上的物質，可選用手動閥門控制或者全自動控制器進行反沖洗、正沖洗等一系列操作。保證設備的產水質量，延長設備的使用壽命。

　　4．活性炭過濾器

　　系統采用果殼活性炭過濾器，活性炭不但可吸附電解質離子，還可進行離子交換吸附。經活性炭吸附還可使高錳酸鉀耗氧量（COD）由15mg/L(O2)降至2～7mg/L(O2)，此外，由于吸附作用使表面被吸附復制的濃度增加，因而還起到催化作用、去除水中的色素、異味、大量生化有機物、降低水的余氯值及污染物和除去水中的三鹵化物（THM）以及其它的污染物。可選用手動閥門控制或者全自動控制器進行反沖洗、正沖洗等一系列操作。保證設備的產水質量，延長設備的使用壽命。同時，設備具有自我維護系統，運行費用很低。

　　5．離子軟化系統/加藥系統

　　R/O裝置為了溶解固體形物的濃縮排放和淡水的利用，為防止濃水端特別是RO裝置zui后一根膜組件濃水側出現CaCO3,MgCO3,MgSO4,CaSO4,BaSO4, SrSO4, SiSO4的濃度積大于其平衡溶解度常數而結晶析出,損壞膜原件的應有特性 ,在進入反滲透膜組件之前,應使用離子軟化裝置或投放適量的阻垢劑阻止碳酸鹽, SiO2,硫酸鹽的晶體析出.

　　6．精密過濾器

　　采用精密過濾器對進水中殘留的懸浮物、非曲直粒物及膠體等物質去除，使RO系統等后

　　續設備運行更安全、更可靠。濾芯為5um熔噴濾芯、目的防止上級過濾單元，漏掉的大于5um的雜質除去。防止進入反滲透裝置損壞膜的表面，從而損壞膜的脫鹽性能。

　　7．反滲透系統

　　反滲透裝置是用足夠的壓力使溶液中的溶劑（一般是水）通過反滲透膜（或稱半透膜）而分離出來，因為這個過程和自然滲透的方向相反，因此稱為反滲透。 反滲透法能適應各類含鹽量的原水，尤其是在高含鹽量的水處理工程中，能獲得很好的技術經濟效益。反滲透法的脫鹽率提高，回收率高，運行穩定，占地面積小，操作簡便，反滲透設備在除鹽的同時，也將大部分細菌、膠體及大分子量的有機物去除。

　　8．臭氧殺菌器（可選）

　　殺滅由二次污染產生的細菌*保證成品水的衛生指標.

反滲透設備的清洗方法

　　反滲透技術因具有特殊的*性而得到日益廣泛的應用。反滲透凈水設備的清洗問題可能使許多技術力量不強的用戶遭受損失，所以要做好反滲透設備的管理，就可以避免出現嚴重的問題。

　　1.低壓沖洗反滲透設備定期對反滲透設備進行大流量、低壓力、低ｐＨ值的沖洗有利于剝除附著在膜表面上的污垢，維持膜性能，或當反滲透設備進水ＳＤＩ突然升高超過5.5以上時，應進行低壓沖洗，待ＳＤＩ值調至合格后再開機。

　　2.反滲透設備停運保護由于生產的波動，反滲透設備不可避免地要經常停運，短期或長期停用時必須采取保護措施，不適當地處理會導致膜性能下降且不可恢復。

　　短期保存適用于停運15ｄ以下的系統，可采用每1～3ｄ低壓沖洗的方法來保護反滲透設備。實踐發現，水溫20℃以上時，反滲透設備中的水存放3ｄ就會發臭變質，有大量細菌繁殖。因此，建議水溫高于20℃時，每2ｄ或1ｄ低壓沖洗一次，水溫低于20℃時，可以每3ｄ低壓沖洗一次，每次沖洗完后需關閉凈水設備反滲透裝置上所有進出口閥門。

　　長期停用保護適用于停運15ｄ以上的系統，這時必須用保護液(殺菌劑)充入凈水設備反滲透裝置進行保護。常用殺菌劑配方(復合膜)為甲醛10(質量分數)、異噻唑啉酮20ｍｇ/Ｌ、亞硫酸氫鈉1(質量分數)。

　　3.反滲透膜化學清洗在正常運行條件下，反滲透膜也可能被無機物垢、膠體、微生物、金屬氧化物等污染，這些物質沉積在膜表面上會引起凈水設備反滲透裝置出力下降或脫鹽率下降、壓差升高，甚至對膜造成不可恢復的損傷，因此，為了恢復良好的透水和除鹽性能，需要對膜進行化學清洗。

　　一般3～12個月清洗一次，如果每個月不得不清洗一次，這說明應該改善的預處理系統，調整的運行參數。如果1～3個月需要清洗一次，則需要提高設備的運行水平，是否需要改進預處理系統較難判斷。

反滲透設備主要用途：

　　1、制取電子工業生產如顯像管玻殼、顯像管、液晶顯示器、線路板、計算機硬盤、集成電路?芯片、單晶硅半導體等工藝所需的純水、高純水；

　　2、制取熱力、火力發電鍋爐，廠礦企業中、低壓鍋爐給水所需軟化水、除鹽純水；

　　3、制取醫藥工業所需的大輸液、注射劑、藥劑、生化制品純水、無菌水及人工腎透析用純水等；

　　4、制取飲料（含酒類）行業的飲用純凈水、蒸餾水、礦泉水，酒類釀造水和勾兌用純水；

　　5、海水、苦咸水制取生活用水及飲用水；

　　6、制取電鍍工藝用去離子水；電池（蓄電池）生產工藝的純水；汽車、家用電器、建材產品

　　表面涂裝、清洗沌水；鍍膜玻璃用純水；紡織印染工藝所需的除硬除鹽水；